半導体リソグラフィ用UVハロゲンランプ：パワー、精度、プロセス制御
私たちがこれらのUVランプを作った理由はひとつです。半導体リソグラフィは手強い。何度でも頼りになる熱量が必要で、出力がぶれないことが求められます。ウェハーステージ上で安定し、厳しい公差を守り、途中で止まらない熱源が必要です。
パワー、電圧、サイズ―それがあなたに意味すること
アークは400Vの高電圧電源で駆動しています。なぜなら、これにより点火が確実で、ウェハーランの間にランプをオン・オフしても動作が安定するからです。
2500Wの定格は単なる数字ではなく、感光剤露光に必要な熱密度の最適ポイントを達成するためのパワーです。
そして300mmの長さは意図的なものです。標準的なステージやランプハウスのセットアップに合致するため、チャンバー全体を再設計せずにユニットを差し込むことができます。
材料と設計：清潔かつ頑丈を保つために
内部ではハロゲンサイクルが石英封入管内で機能し、フィラメントとチューブを清潔に保ちながら稼働します。その結果はシンプルです。日々安定したUV出力が得られます。
石英は熱に耐え、軟化せず、UVを正しく透過します。
さらにR7sコネクターがあります。実績があり実用的で、素早く固定でき、高電流を安全に運び、配線ミスを減らし、交換も迅速に行えます。面倒なくすぐに作業に戻れます。
なぜこれがリソグラフィ現場で重要なのか
リソグラフィにおいてランプの安定性は「あるといいな」ではなく、厳密なオーバーレイ精度と無駄なランの差を生みます。このセットアップで再現性のある熱、速いウォームアップ、小さな設置面積が得られます。
ひとつ注意点として、2500Wの熱密度はかなり強力なので、冷却計画をしっかり立ててください。ランプハウスに十分な気流と熱的余裕を持たせれば、過熱を防げます。