http://uv-curing-lamp.com/uk/tags/%D1%96%D0%B4%D0%B5%D0%BD%D1%82%D0%B8%D1%84%D1%96%D0%BA%D0%B0%D1%86%D1%96%D1%8F/ Recent content in Ідентифікація on UV Curing Lamp Hugo uk Wed, 01 Jul 2026 16:35:18 +0800 http://uv-curing-lamp.com/uk/posts/uv-lamp-for-mineral-identification/ Wed, 01 Jul 2026 16:35:18 +0800 http://uv-curing-lamp.com/uk/posts/uv-lamp-for-mineral-identification/ <p><img src="http://uv-curing-lamp.com/images/160959689126cad3dde3475545820c11.png" alt="УФ лампа для ідентифікації мінералів"></p> <p>На пресах типу MHM неможливо досягти стабільності процесу висихання матеріалу. Якщо лампа не функціонує належним чином, відбувається неповне зв’язування молекул матеріалу, що призводить до проблем із адгезією та інших непередбачених наслідків. Ми розробили ці УФ-лампи так, щоб вони забезпечували стабільну продуктивність – принаймні на рівні специфікацій виробника, а можливо, навіть краще – без значного підвищення загальних витрат.</p> <p><strong>Що насправді має значення у процесі висихання матеріалу під дією УФ-випромінювання</strong><br> Це не стосується яскравості. Йдеться про спектральний склад випромінювання та його інтенсивність. Наші лампи на основі ртутного пару забезпечують стабільний спектр випромінювання при довжині хвилі 365 нм, що відповідає параметрам фотоініціаторів, використовуваних у чорнилах для офсетного, флексографського та сіткового друку. Максимальна інтенсивність випромінювання на поверхні матеріалу становить понад 1200 мВт/см²; ми також вказуємо енергетичну щільність у мДж/см², щоб можна було пов’язати параметри лампи з швидкістю друку та часом висихання матеріалу. Рефлектор має дихроїчне покриття, яке зменшує нагрівання від інфрачервоного випромінювання, водночас підвищуючи інтенсивність УФ-випромінювання. Геометрія електричної дуги також оптимізована, щоб інтенсивність випромінювання була однаковою по всій ширині друкованої поверхні.</p>